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相對(duì)于傳統(tǒng)的機(jī)械式測(cè)風(fēng)設(shè)備，超聲波風(fēng)速計(jì)有自己的優(yōu)勢(shì)：沒(méi)有旋轉(zhuǎn)或移動(dòng)的部件，可靠性提高明顯，幾乎不需要維護(hù)。機(jī)械式風(fēng)速儀的風(fēng)杯和風(fēng)向標(biāo)都有自身的慣性，測(cè)量部件本身就變成了一個(gè)天然存在的濾波器，使得快速變化的風(fēng)速被濾掉測(cè)量不到。而超聲波風(fēng)速儀不會(huì)有這個(gè)問(wèn)題，要測(cè)量那些快速變化的陣風(fēng)，包括風(fēng)向的瞬間變化都可以測(cè)量得到。一個(gè)好的超聲波風(fēng)速計(jì)，可以幫助人們解決風(fēng)速儀結(jié)冰的困擾。相對(duì)于機(jī)械式，超聲波風(fēng)速儀可以設(shè)計(jì)更理想的加熱方案，從根本上解決冰凍問(wèn)題。因此，抗冰凍是很多業(yè)主選擇超聲波風(fēng)...

手動(dòng)探針臺(tái)：手動(dòng)探針臺(tái)是手動(dòng)控制的，這意味著晶圓載物臺(tái)、顯微鏡以及定位器/操縱器都是由使用者手動(dòng)移動(dòng)的。因此一般是在沒(méi)有很多待測(cè)器件需要測(cè)量或數(shù)據(jù)需要收集的情況下使用手動(dòng)探針臺(tái)。該類探針臺(tái)的優(yōu)點(diǎn)之一是只需要最少的培訓(xùn)，易于配置環(huán)境和轉(zhuǎn)換測(cè)試環(huán)境，并且不需要涉及額外培訓(xùn)和設(shè)置時(shí)間的電子設(shè)備、PC或軟件。由于其靈活和可變性高的特點(diǎn)，非常適合研發(fā)人員使用。半自動(dòng)探針臺(tái)：半自動(dòng)探針臺(tái)是一種用于信息科學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)領(lǐng)域的分析儀器，于2004年3月17日啟用。支持4，5，6寸wafer分辨...

鹽霧氣溶膠發(fā)生器因其自身的優(yōu)勢(shì)廣泛應(yīng)用于制藥行業(yè)過(guò)濾器的檢漏。其用于潔凈室和密閉系統(tǒng)高效和較高效空氣過(guò)濾器系統(tǒng)的檢測(cè)。還可以在潔凈空氣和密閉工業(yè)部門用于氣流流型、自凈時(shí)間測(cè)定和泄漏測(cè)試。使用惰性氣體（通常是CO2）通過(guò)加熱器推動(dòng)油氣化。在介紹氣溶膠光度計(jì)的它配合氣溶膠發(fā)生器，一起對(duì)高效過(guò)濾器檢漏。因?yàn)橐诟咝н^(guò)濾器的上游增加發(fā)塵，就需要使用到氣溶膠發(fā)生器，使用的是堅(jiān)固耐用的不銹鋼結(jié)構(gòu)，寬大的填充口，獨(dú)立的噴嘴控制。如過(guò)濾器驗(yàn)證商，政府和商用核設(shè)施，制藥廠，醫(yī)藥設(shè)施等領(lǐng)域都能得...

在使用狹縫擠出式涂布機(jī)完畢工作中后與塑料水塔，泵一起清洗。要*去除乙酸乙酯的膠是非常艱難的。小量的強(qiáng)力膠殘存在擦抹輥上，會(huì)壅閉。那么，涂布機(jī)應(yīng)該如何清洗呢？清洗狹縫擠出式涂布機(jī)后應(yīng)留意：1、洗衣粉sp-751酸溶液，實(shí)際操縱時(shí)務(wù)必戴上膠皮手套，護(hù)目鏡，防護(hù)口罩等防護(hù)裝備。2、乙酸乙酯5-11的使用，如沒(méi)有臟東西的修復(fù)仍然能夠在流程6-8使用。3、洗滌液對(duì)金屬材料有侵蝕。假設(shè)涂層被有涂勝過(guò)1小時(shí)的洗滌液，它將有可能離開(kāi)鉻涂層輥，這務(wù)必在1小時(shí)內(nèi)舉行。狹縫擠出式涂布機(jī)實(shí)際操縱流程...

一、磁控濺射概述磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，而上世紀(jì)70年代發(fā)展起來(lái)的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。二、基本概念濺射：用荷能粒子轟擊固體表面時(shí)，固體表面原子受到荷能粒子碰撞，有可能獲得足夠的能量和動(dòng)量，并從表面逸...

近年來(lái)，由于脈沖激光技術(shù)的發(fā)展日趨成熟，脈沖激光沉積（PLD）在薄膜制備領(lǐng)域的應(yīng)用已經(jīng)成為研究的熱點(diǎn)。由于脈沖激光具有高能量峰值以及短脈寬，燒蝕靶材時(shí)會(huì)濺射出大量復(fù)雜的微納粒子形成等離子體，等離子體在真空或背景氣體中經(jīng)過(guò)定向膨脹后到達(dá)基底，在基底上形成產(chǎn)物，因此利用PLD技術(shù)可以在基底上沉積特定成分和微納結(jié)構(gòu)的薄膜。脈沖激光沉積技術(shù)能夠制備類型廣泛且性能優(yōu)異的功能薄膜，因此目前被廣泛地應(yīng)用到光電、新能源、生物、超導(dǎo)、電子封裝、催化、傳感等領(lǐng)域。1、光電領(lǐng)域近年來(lái)，PLD制備二...