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表面光電壓譜采用白光偏置光路激發(fā)材料；大功率*脈沖激光器，采用電磁屏蔽，無任何外界干擾，測試光路，水平與垂直可任意在線切換，實現(xiàn)固體樣品和液體樣品均可測試分析。光生載流子動力學主要測試技術(shù)，載流子動力學測試技術(shù)主要有電學和譜學兩類，電學方法主要是光電化學，測量方式又分時間域和頻率域，時間域方法主要有瞬態(tài)光電壓（TPV）和瞬態(tài)光電流（TPC），頻率域方法主要有電化學阻抗譜（EIS）和光強度調(diào)制光電壓譜（IPVS）和光強度調(diào)制光電流譜（IMPS）等。譜學方法主要是瞬態(tài)吸收光譜和瞬...

多功能磁控濺射儀由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測，用于制備各種金屬膜、半導體膜、介質(zhì)膜、磁控膜、光學膜、超導膜、傳感膜以及各種特殊需求的功能薄膜。磁控濺射儀的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子，新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶...

狹縫擠出式涂布機是一款應(yīng)用狹縫擠出式涂布模頭對基材進行非接觸式涂布的一款設(shè)備。該設(shè)備通過配置狹縫擠壓涂布模頭、精密計量供料系統(tǒng)與進料閥體配合可實現(xiàn)連續(xù)涂布和條紋涂布兩種類型的涂布功能。設(shè)備涂布精度高，一致性和穩(wěn)定性好，廣泛應(yīng)用于鋰離子電池、FCCL、光學薄膜、膠帶以及各種功能薄膜行業(yè)，狹縫擠出涂布方式，涂布精度高，涂層一致性好；供料閥體配合模頭墊片，可實現(xiàn)連續(xù)、間歇、條紋、網(wǎng)格等形狀的涂布；模頭根據(jù)客戶材料特性設(shè)計，可實現(xiàn)超薄亞微米級涂布；計量泵供料，漿料封閉運行，可自由設(shè)定...

深能級瞬態(tài)譜儀是半導體領(lǐng)域研究和檢測半導體雜質(zhì)、缺陷深能級、界面態(tài)等的重要儀器。根據(jù)半導體P-N結(jié)、金－半接觸結(jié)構(gòu)肖特基結(jié)的瞬態(tài)電容（△C～t）技術(shù)和深能級瞬態(tài)譜（DLTS）的發(fā)射率窗技術(shù)測量出的深能級瞬態(tài)譜，是一種具有高檢測靈敏度(檢測靈敏度通常為半導體材料中摻雜濟濃度的萬分之一)的實驗方法，能檢測半導體中微量雜質(zhì)、缺陷的深能級及界面態(tài)。通過對樣品的溫度掃描，可以給出表征半導體禁帶范圍內(nèi)的雜質(zhì)、缺陷深能級及界面態(tài)隨溫度（即能量）分布的DLTS譜，集成多種全自動的測量模式及全...

表面光電壓譜主要應(yīng)用于半導體材料或者器件的TPV測試和機理分析，光催化材料TiO2、C3N4、CdS、磷化物等、催化材料、分子篩、太陽能電池（單晶、多晶、染料敏化、鈣鈦礦）、光電化學的TPV、電化學材料的TPV等。光電壓譜采用白光偏置光路激發(fā)材料；大功率*脈沖激光器；采用專有技術(shù)的電磁屏蔽，無任何外界干擾；測試光路，水平與垂直可任意在線切換，實現(xiàn)固體樣品和液體樣品均可測試分析。光生載流子動力學主要測試技術(shù)，載流子動力學測試技術(shù)主要有電學和譜學兩類.電學方法主要是光電化學，測量...

氣溶膠粒徑譜儀觸摸屏式顯示和操作，集成網(wǎng)絡(luò)服務(wù)器，實時顯示測量數(shù)據(jù)，無需外接電腦，單臺儀器可以連續(xù)自動測量數(shù)周，儀器配置標準接口，過程控制系統(tǒng)或通用程序可以控制該儀器，所以特別適用于控制和監(jiān)測。粉塵發(fā)生器用于測量不同高度的飄浮顆粒物。樣品流量由外置真空泵來維持供給，其流量大小由定流量孔口流量計來控制。儀器可實時檢測氣溶膠顆粒，粒徑范圍在0.25微米至32微米，具有31個粒徑通道，測量結(jié)果可顯示為顆粒數(shù)目濃度或選擇顯示為顆粒質(zhì)量濃度。粉塵發(fā)生器易于安裝、結(jié)構(gòu)靈活、使用方便，只需...