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多功能磁控濺射儀在單個陰極靶系統(tǒng)中，與脈沖磁控濺射有同樣的釋放電荷、防止打弧作用，適用于高分辨掃描電鏡及聚焦離子束掃描電鏡樣品的噴金以及樣品等離子體清洗等多種用途。儀器實現(xiàn)磁控濺射噴金，獲得更為細膩的金膜，以滿足高分辨掃描電鏡等樣品處理，同時具備射頻離子源實現(xiàn)樣品清洗，高效、低等離子體轟擊損傷，核心部件采用無油分子泵組，靜音、無需操心真空系統(tǒng)和操作間環(huán)境泵油污染，保證設備具有優(yōu)異的質(zhì)量與穩(wěn)定可靠性，觸摸屏界面操作，即插即用。該設備是一款小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點是設備體積小...

磁控濺射鍍膜機在磁控濺射中，由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力，運動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運動，其運動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，降低薄膜污染的傾向。另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量，同時，經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時，已變成低能電子，從而不會使基片過熱。射頻磁控濺射相對于直流磁控濺射的主要優(yōu)點是，它不要求作為電...

快速化學淬滅系統(tǒng)是多路混合停流裝置，淬滅裝置，快速混合溫度突變等裝置系統(tǒng)，產(chǎn)品設計解決您快速動力學應用中的需要，自動濃度依賴性實驗研究以及兩路混合實驗研究，標準停流配置適用所有光學模式：吸收，熒光，圓二色，熒光各向異性光譜等測定。比色池多樣性，可擴展溫度適用范圍，可更換SFM附件，應用于：化學淬滅，光學淬滅以及光學延時，冷凍淬滅，X-射線散射停流，中子色散停流，EPR停流，低溫停流，自動滴定，停流電導，快速混合溫度突變系統(tǒng)，微重力實驗研究等。儀器有外部信號輸入通道，同步16位...

快速動力學停流裝置與光譜儀器配合進行快速動力學瞬間實時記錄，或離線分析，為廣大的快速動力學研究學者提供了保障。裝置可進行平板邊界層氣流實驗，紊流射流實驗，圓柱壓力分布測量及饒流阻力實驗，動量法測量機翼阻力實驗及表面壓強分布實驗；為小型風洞式，實驗段為組裝式結(jié)構(gòu)，各試件相互輪換實驗組裝方便。停流裝置配有多管傾斜式調(diào)平測壓計，不銹鋼畢托管，電鍍平板試件及有機玻璃風道、有機玻璃圓柱試件及有機玻璃風道、電鍍噴嘴試件及有機玻璃風道、有機玻璃機翼試件及有機玻璃風道，低噪音多翼式離心風機，...

皮可安培計通過使所有的在輸入附近的點的電位都變得和輸入一樣就可以做到了，這樣的話輸入的電位其實是虛接地的，通過接地就可以阻止任何在正負15V輸入端之間和反相輸入求和點上的雜散泄露電流。半機架外殼皮安培計/源通道，允許在兩個通道同時進行6位測量，使其它高速通道密度密度增加了兩倍，相比有備選的單通道皮安培計/源通道組合，可以實現(xiàn)簡便控制和數(shù)據(jù)聚合、擁有低成本、高測量精度和寬動態(tài)范圍，用戶在每個通道上讀取900次讀數(shù)/秒。皮可安培計是高性價比電流測試儀器，它具有的分辨率與高靈敏度，...

Palas®如何輔助影響天氣？Palas®與科學研究所并肩進行技術(shù)創(chuàng)新北京市人工影響天氣辦公室（北京市人影辦）負責北京地區(qū)人工影響天氣業(yè)務、科研和管理，日常主要業(yè)務包括為北京地區(qū)人工增雨、人工防雹等，曾為2008年北京奧運會等重大活動提供氣象保障。辦公室近期購置了定制的Palas®Promo®2000氣溶膠光譜儀。我們與來自人影辦的高級工程師進行了訪談，他從事大氣中云微物理過程的研究。本文將與您分享Palas®儀器與研究機構(gòu)一同探索科研...